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半導體廢水處理工藝

2022-01-20 09:36:10 7

  1、工程概況

  本文主要以浙江某半導體電子行業(yè)的廢水處理工程實例,系統(tǒng)介紹了整體的處理工藝,以及設備參數(shù)選擇等。進水水質(zhì)及排放標準見下圖。

污水處理設備__全康環(huán)保QKEP

  2、工藝說明

  廢水分為三種廢水,酸堿廢水,含氟廢水,研磨廢水。具體處理流程如下:

污水處理設備__全康環(huán)保QKEP

  2.1 酸堿廢水處理工藝

  酸堿廢水主要為含酸含堿廢水。依據(jù)濃度不同,常采用工藝主要有pH中和法和濃縮法,基于本項目酸堿廢水的pH范圍和項目成本,本工藝采用pH中和法。

  主要流程為:酸堿廢水進入酸堿廢水調(diào)節(jié)池,進行曝氣混勻,然后通過水泵提升進入pH中和池進行三級酸堿加藥反應。調(diào)節(jié)pH至中性,出水進入排放池,達標排放。

  2.2 含氟廢水處理工藝

  含氟廢水處理常采用工藝為吸附法和化學加藥混凝法。本項目中進水氟離子濃度為300mg/L,采用混凝沉淀法。另配置一套活性氧化鋁吸附裝置,若不達標則經(jīng)氧化鋁吸附后排放。

  主要流程:含氟廢水進入含氟調(diào)節(jié)池進行曝氣混勻。后經(jīng)提升泵提升至含氟反應池。池中設有pH計,控制加藥泵投加酸堿,調(diào)節(jié)pH值為7~9,同時用投加CaCl2,反應生成沉淀。之后依次自流進入混凝池和絮凝池,通過加藥泵分別加入PAC與PAM,進一步混凝沉淀。

  2.3 研磨廢水處理工藝

  研磨廢水主要成分為硅粉等無機懸浮物,SS較高。故常采用的化學混凝沉淀法作預處理。

  主要流程為:研磨廢水經(jīng)進入研磨廢水調(diào)節(jié)池,曝氣混勻后,由水泵提升至反應池,池中調(diào)節(jié)pH并加入PAC混凝沉淀,之后自流進入絮凝池,池中加入PAM,絮凝后進入沉淀池。沉淀池上清液再進入生化池。

  3、主要構(gòu)筑物及設計參數(shù)

  3.1 酸堿廢水系統(tǒng)

  3.1.1 酸堿調(diào)節(jié)池

  1座,設計規(guī)模:2400m3/d,停留時間:3.3h,尺寸:5.3m×9.7m×6.0mH。

  主要設備:提升泵,2臺(1+1),Q=120m3/h,H=20m。

  3.1.2 pH中和池

  11座,F(xiàn)RP材質(zhì),停留時間:30min,尺寸:4.9m×2.3m×5mH。

  3.1.3 pH中和池

  21座,F(xiàn)RP材質(zhì),停留時間:15min,尺寸:2.0m×2.3m×5mH。

  3.1.4 pH中和池

  31座,F(xiàn)RP材質(zhì),停留時間:15min,尺寸:2.0m×2.3m×5mH。

  3.2 含氟廢水系統(tǒng)

  3.2.1 含氟調(diào)節(jié)池

  1座,設計規(guī)模:720m3/d,停留時間:3.6h,尺寸:2.1m×9.7m×6.0mH。

  主要設備:提升泵,2臺(1+1),Q=40m3/h,H=20m。

  3.2.2 含氟反應池

  1座,F(xiàn)RP材質(zhì),停留時間:15min,尺寸:1.5m×1.5m×5mH。調(diào)節(jié)進水pH,同時投加CaCl2,與水中氟離子反應。

  主要設備:槳式攪拌機,1臺,轉(zhuǎn)速為80rpm。

  3.2.3 含氟混凝池

  1座,F(xiàn)RP材質(zhì),停留時間:15min,尺寸:1.5m×1.5m×5mH。投加PAC混凝。主要設備:槳式攪拌機,1臺,轉(zhuǎn)速為80rpm。

  3.2.4 含氟絮凝池

  1座,F(xiàn)RP材質(zhì),停留時間:15min,尺寸:1.5m×1.5m×5mH。投加PAM,凝聚水中大分子,加快沉淀。

  主要設備:框式攪拌機,1臺,轉(zhuǎn)速為30rpm。

  3.2.5 含氟吸附槽(活性氧化鋁)

  尺寸:?2.8m×2.5m。若氟離子超標,廢水切換進入吸附槽,吸附處理。

  3.3 研磨廢水系統(tǒng)

  3.3.1 研磨調(diào)節(jié)池

  1座,設計規(guī)模:2320m3/d,停留時間:3.3h,尺寸:5.6m×9.7m×6.0mH。主要設備:提升泵,2臺(1+1),Q=110m3/h,H=20m。

  3.3.2 研磨反應池

  1座,F(xiàn)RP材質(zhì),停留時間:18min,尺寸:2.4m×2.8m×5mH。調(diào)節(jié)進水pH,同時投加PAC混凝沉淀。主要設備:槳式攪拌機,數(shù)量1臺,轉(zhuǎn)速為80rpm。

  3.3.3 研磨絮凝池

  1座,F(xiàn)RP材質(zhì),停留時間:18min,尺寸:2.4m×2.8m×5mH。投加PAM,凝聚沉淀。主要設備:框式攪拌機,數(shù)量1臺,轉(zhuǎn)速40rpm。

  3.3.4 研磨初沉淀池

  1座,設計規(guī)模:3040m3/d,停留時間:2.3h,尺寸:13.5m×4.6m×5mH。廢水進入沉淀池沉淀,上清液去生化池。主要設備:污泥泵,2臺(1+1),2寸。

  3.4 生化系統(tǒng)

  3.4.1 水解池

  A/B2座,停留時間:4.9h,尺寸:4.55m×8.8m×5.0mH。水解酸化大分子有機物,改善廢水可生化性。

  3.4.2 接觸氧化池

  A/B2座,停留時間:12h,尺寸:19.0m長×4.55m寬×6.5m高。池內(nèi)曝氣。

  3.4.3 二沉池

  A/B2座,停留時間:6.7h,尺寸:16.8m×4.5m×5mH。沉淀生化污泥。上清液進入排放池。主要設備:污泥泵,3臺(2+1),2寸。將污泥送至污泥儲池。

  3.4.4 排放池

  1座,停留時間:0.5h,尺寸:5.3m×6.3m×5mH。收集排放廢水,測定水中污染物指標,達標排放。主要設備:排放回流泵,2臺(1+1),Q=230m3/h,H=20m

  3.5 污泥系統(tǒng)

  3.5.1 污泥儲池

  1座,尺寸:11.0m×4.6m×5mH。收集污泥,送至壓濾機壓干主要設備:污泥壓濾泵,2臺(1+1),2寸

  3.5.2 污泥脫水系統(tǒng)

  絕干污泥量為750kg/d,污泥含水率為98%,經(jīng)板框壓濾后含水率達到70%。污泥上清液回流至調(diào)節(jié)池重新處理。

  主要設備:板框隔膜壓濾機,過濾面積:120m2,過濾壓力:0.8MPa,濾板材質(zhì):增強聚丙烯。

  4、運行效果及費用

  4.1 運行效果

  該工程于2017年5月進行調(diào)試運行驗收合格后,工程連續(xù)運行期間的水質(zhì)穩(wěn)定,各項指標均達到設計排放標準及納管標準。

  4.2 運行費用

  連續(xù)運行期間,電費0.83元/m3,藥劑費用1.74元/m3,由于自動化程度較高,人工費用約為0.30元/m3,整體運行費用約為2.87元/m3。

  5、結(jié)語

  5.1 該項目水量大(設計水量達到5000m3/d),廢水種類較多,具有半導體電子行業(yè)廢水的代表性。廢水的分類處理,能有效提升處理效率,同時保證出水水質(zhì)。

  5.2 整套系統(tǒng)采用PLC程序控制,自動化程度高,節(jié)省人力成本,運行成本為2.87元/噸水。(來源:江蘇中電創(chuàng)新環(huán)境科技有限公司)

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